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華為公開“心理壓力評估”相關(guān)專利；華為公開睡眠風險預測專利；華為公布眼袋檢測方法專利

日期：2021-10-25 17:05:48    　　點擊：

華為公開“心理壓力評估”相關(guān)專利

華為技術(shù)有限公司在近日公開了“一種心理壓力評估方法及設(shè)備”專利，公開號為 CN110337699B。

專利摘要顯示，本申請為一種心理壓力評估方法及設(shè)備，該方法包括：獲取用戶的生理參數(shù)測量值;根據(jù)用戶的生理參數(shù)測量值和用戶的心理壓力評估模型，確定用戶的心理壓力評估結(jié)果;用戶的心理壓力評估模型是根據(jù)用戶的生理參數(shù)參考值、與用戶的生理參數(shù)參考值對應(yīng)的心理壓力值，以及心理壓力評估通用模型確定的，或者，用戶的心理壓力評估模型是根據(jù)用戶的生理參數(shù)參考值和心理壓力評估通用模型確定的。

據(jù)了解，心理壓力評估通用模型是反映心理壓力值變化量與生理參數(shù)值變化量之間的變化關(guān)系的模型，所述方法可以提高用戶的心理壓力預測的可靠性。(來源：IT之家)

華為公開睡眠風險預測專利，可評估睡眠呼吸暫停風險

10月22日，華為技術(shù)有限公司申請公布“睡眠風險預測方法、裝置和終端設(shè)備”專利，公布號為CN113520343A。

華為公布眼袋檢測方法專利

近日，華為技術(shù)有限公司與中國科學院自動化研究所聯(lián)合公布“眼袋檢測方法以及裝置”專利，公布號CN113536834A，申請日期為2020年4月。

預制模塊單元及數(shù)據(jù)中心

摘要：本申請?zhí)峁┮环N預制模塊單元及數(shù)據(jù)中心。所述預制模塊單元包括頂層架體、底層架體及連接在所述頂層架體和所述底層架體之間的立柱，所述頂層架體、所述底層架體和所述立柱共同圍設(shè)出收容空間;所述頂層架體包括平行于所述立柱方向的頂部和底部，所述底部設(shè)置在所述頂部和所述底層架體之間;通過具有高度差的所述頂部和所述底部將所述收容空間劃分為兩部分，所述底部與所述頂部之間構(gòu)成第一子空間，所述底部與所述底層架體之間構(gòu)成第二子空間。本申請的技術(shù)方案能夠在保證預置模塊化數(shù)據(jù)中心具有良好工作性能的基礎(chǔ)上，提高預制模塊化數(shù)據(jù)中心內(nèi)部的空間利用率

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本文來源：http://m.jrao.cn/2021/hyxw_1025/6319.html

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